OLED制造中有三个比较重要的制程，文中通过相关资料整理，收集了些这三个制程的精华介绍，以供大家了解参考。
ITO基板前处理制程 制造有机EL显示面板所采用的Indium-tin-oxide (ITO) 透明导电玻璃基板，通常厚度为0.7mm或1.1mm的钠碱玻璃 (soda lime)，在约150mm的ITO导电薄膜及钠碱玻璃基板之间镀上约数十微米的SiO2薄膜，以阻绝钠碱玻璃内金属离子游移的干扰，而ITO薄膜的导电特性则界定在其面电阻 (sheet resistance) 约10Ω/□。在进入面板制造流程前ITO基板的洗净，则透过湿式及干式的清洗制程达到高洁净度的ITO表面，在湿式清洗过程反复地以中性洗剂及纯水超音波清洗后，再搭配有机溶剂以快速地干燥ITO基板，经过干燥的ITO基板表面仍有些许的有机物残留，会影响ITO电极的正电荷 (hole) 注入效率，UV-O3的处理可以将ITO基板上残留有机物除去，而存在ITO表面的缺陷可利用RF-O2电浆的表面改质处理，以降低正电荷注入的能阶障壁，因此，UV-O3及RF-O2电浆的干式处理，能有效地降低有机EL组件发光的驱动电压，也广泛地应用在量产的制程中。 多层镀膜制程
(真空蒸镀法沉积成膜示意图) 在发光亮度、耗电量及工作电压的操作条件考虑下，多层结构的有机EL显示面板所提供的发光特性和稳定性，始能满足量产化的要求及量产生产时的效益，因此，多腔体的真空镀膜系统及单一镀膜腔体对应一层镀膜处理的设计原则，架构了量产装置的运作方式。而针对多层镀膜量产系统及制程因应简述如下：
OLED制造中有三个比较重要的制程，文中通过相关资料整理，收集了些这三个制
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msp430中如何连续对位进行取反_OLED制造中三个重要制程其中之一就是PVD技术_weixin_39967812的博客
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